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工業(yè)顯微鏡

簡要描述:v支持通過光學顯微鏡或圖像測量儀(如NikonNEXIV)

基礎(chǔ)信息

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更新時間

2024-10-22

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詳細介紹

v 支持通過光學顯微鏡或圖像測量儀(如Nikon NEXIV),對直徑為6英寸(150mm)和8英寸(200mm)的半導體晶圓的創(chuàng)新設(shè)計和材料進行檢測

v 的半導體晶圓裝載機系列,能夠?qū)⒅睆綖?/span>6英寸(150mm)和8英寸(200mm)的晶圓轉(zhuǎn)移到厚度為100微米(工廠制造選項)的尼康Eclipse L200NLV150N顯微鏡或NEXIV VMZ-S視頻測量儀器上

v NWL200系列與尼康NEXIV影像測量儀器集成在一起,可在半導體生產(chǎn)和檢測過程中快速         提供全精度和準確度

v 支持半導體晶圓前圖案側(cè)、后周邊和中心區(qū)域檢測??勺詣踊蚴謩釉O(shè)置晶圓旋轉(zhuǎn)速度和傾斜角度


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